AMEC 국내 메모리 선두업체로부터 추가발주에 성공
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-- 16나노 플래시 메모리 공정에 자사 Primo SSC AD-RIE가 기준 생산 설비로 선정
(상하이 및 서울 2014년 2월 12일 PRNewswire=연합뉴스) (주)에이멕(AMEC)은 오늘 국내 한 메모리 제조 선두업체로부터 Primo SSC AD-RIE의 추가 발주에 성공하였으며 양산에 사용될 것이라고 전했다. 또한 해당 설비는 오랜 기간의 엄격한 검증 절차를 거치는 동안 우수한 생산성과 공정능력을 지속적으로 증명해 보임으로써 16나노 플래시 메모리 공정의 공식적인 기준생산설비(PTOR)로 자리 잡게 되었다. 이를 발판으로 에이멕은 고객과 DRAM 및 3D NAND 공정 개발에도 참여하고 있다.
(사진: http://photos.prnasia.com/prnh/20140211/0861400649 )
(주)에이멕의 Single-Station Chamber Advanced Dielectric 식각장비 Primo SSC AD-RIE™
기준 생산 설비로 지정되었다는 것은 (주)에이멕에게는 큰 성과로써, 윤경일 한국 지사장은 "오늘날 업계 선두 고객은 단순히 새로운 설비를 찾는 것이 아니라 복잡한 제조 난관을 이겨낼 해결책을 원하기 때문에 진보된 기술과 관련 전문지식을 융합한 긴밀한 협력관계를 필요로한다. 이러한 협력관계로 우리는 고질적인 공정 문제를 해결할 수 있었고 동시에 고객의 플래시 메모리 개발에 기여할 수 있었다"고 말했다.
Primo SSC AD-RIE는 (주)에이멕의 Primo etch의 3세대 장비로써, 최첨단 식각 공정의 까다로운 요구사항들을 만족시킬 수 있도록 개발되었고 고생산성, 탁월한 공정능력 뿐만아니라 차세대 공정으로의 확장성까지 갖추고 있다. 최대 6챔버까지 장착이 가능하며, 우수한 공정 제어능력을 갖도록 설계 되었고, 각각의 체임버는 높은 펌핑 능력, multi-zone 가스 분사, RF 펄싱, multi-zone ESC 온도제어 등의 기능을 가지고 있다. 다양한 tuning knob을 활용한 미세제어 능력과 견고한 체임버 설계를 바탕으로 HARC 공정에서 not-open 및 공정 변화를 방지함으로써 체임버간 공정 재현성을 확보하여 생산성 확대에도 기여하고 있다.
(주)에이멕 식각 설비의 장점은 체임버 구성의 유연성을 들 수 있는데 동일한 메인프레임에 저비용, 높은 생산성을 가진 Dual-station 체임버 혹은 고난도 공정에 맞게 고안된 Single-station 체임버를 선택적으로 장착할 수 있으며, Gas box 역시 유지보수에 용이하게 바닥에 위치시키거나, 혹은 장비 면적을 줄일 수 있도록 상부에 위치시킬 수 있다.
추가 정보는 웹사이트 www.amec-inc.com에서 조회할 수 있다.
출처: Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.
