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몰레큘러 임프린트(Molecular Imprints )의 반도체 사업, 캐논(Canon)사에 인수

Canon Inc.
2014-02-14 05:00 30,934

-- 합병을 통해 나노 기술 시장 기회 개발에 초점을 맞출 독립적인 회사 창출

텍사스, 오스틴, 2014년 2월 14일 /PRNewswire/ -- 나노 패터닝 시스템 및 솔루션 분야의 시장 및 기술의 선두업체인 몰레큘러 임프린트(Molecular Imprints Inc., MII)가 오늘 반도체 압입 리소그래피 장비 사업을 일본 도쿄 소재의 캐논 사에 판매하기로 협의했다고 밝혔다. 캐논은 현재 KrF excimer 및 i-line 조명 광학 리소그래피 플랫폼을 제작 및 판매하고 있다. 캐논은 최첨단 고해상도 패터닝을 위한 리소그래피 장비 시장에 진출하기 위해 지난 2004년부터 나노 압입 기술에 대한 연구를 시작했다. 2009년부터 캐논은 MII 및 주요 반도체 제작 업체와 함께 공동 개발을 수행해왔으며, 대량 생산을 위해 MII의 Jet 및 Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) 기술을 활용했다.

(로고: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO)

몰레큘러 임프린트의 최고경영자인 마크 멜리어-스미스(Mark Melliar-Smith)는 "반도체 업계에 기술적으로 가능하며 낮은 비용의 나노 압입 리소그래피 솔루션을 제공하기 위해 지난 4년간 캐논과 함께 기업연합을 구성한 이후로 지금까지 목표를 추구하는 과정에서 우리가 성취한 엄청난 진보에 대해 기쁘게 생각한다. 이러한 성공에 있어 합병은 두 회사를 위한 자연스러운 순서였다"라고 말했다.

2011년 캐논은 글로벌 다양화를 통한 사업 개발을 포함한 전략 중 하나인 최고의 글로벌 기업 구상인 Phase IV을 발표했다. 캐논의 최고기술경영자 토시아키 이코마(Toshiaki Ikoma) 박사는 "MII사 인수는 당사의 '산업 및 기타 사업 유닛'을 강화할 것이다"라며 "자사는 혁신적인 반도체 제작 기회를 얻게 되어 매우 기쁘고, 텍사스 오스틴에서 선진 기술 개발 능력을 만들어갈 수 있게 되길 바란다"고 전했다.

MII는 텍사스대학교 오스팀캠퍼스(University of Texas at Austin, UT)의 SV Sreenivasan 교수와 Grant Willson 교수가 개발한 기술을 기반으로 설립됐다. 지난 몇 십 년간 MII는 해상도 한계를 극복하고 광학 및 EUV 리소그래피 비용 부담을 절감하는 방식으로 무어의 법(Moore's Law)에 맞춰 해당 산업을 지속할 수 있도록 캐논 및 기타 반도체 산업 기반 시설 협력사와 함께 일해왔다. J-FIL 기술은 향후 2년 내에 고급 플래시 메모리용으로 최초 도입되어 사용될 예정이다.

캐논이 J-FIL 기술을 고급 반도체 제작으로 이끈 반면, 합병 협정을 통해 설립되는 새로운 회사에서는 여전히 "몰레큘러 임프린트" 이름이 종전처럼 사용되며, 주요 직원들도 그대로 유지될 예정이다. 소비자 전기기구 및 바이오 의학 장비에서 사용되는 나노스케일 패터닝의 늘어나는 수요를 뒷받침하기 위해 설계된 다중 시스템 플랫폼과 더불어 캐논과 MII의 IP 포트폴리오가 공동 소유하는 권리를 그대로 유지해 새로운 시작의 이점을 유지할 계획이다. Mll의 최고운영책임자인 데이비드 지노(David Gino)는 "자사는 디스플레이와 하드 디스크 드라이브, 바이오 기술 및 기타 신흥 시장에 나노 스케일 제작 솔루션을 낮은 비용으로 공급하길 기대한다"라고 말했다. 지노는 캐논과 합병 계약 종료 전에 회사가 합병되어 설립되면 새롭게 탄생할 MIl의 최고경영자가 될 예정이다.

해당 합병은 보통 주주와 정부의 승인을 받은 이후인 2014년 4월경 완료될 예정이다.

몰레큘러 임프린트(Molecular Imprints, Inc.) 대해 

몰레큘러 임프린트(Molecular Imprints Inc., Mill)는 고해상도 및 저비용으로 소유할 수 있는 나노 패터닝 시스템 및 솔루션 분야 기술의 선두 주자이다. MlI는 디스플레이와 하드 디스크 드라이브, 바이오테크놀로지의 신흥 시장을 공략하는 한편, 반도체 장비 전문 대용량 패터닝 솔루션 분야에서 세계적인 수준의 기술 리더가 되기 위해 자사의 혁신적인 Jet -Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) 기술을 활용한다. MII는 경제적이면서도 10nm 이하까지 확장이 가능한 임프린트 리소그래피 솔루션 제공과 더불어 나노 규모의 패터닝을 가능하게 한다.

기업 문의
폴 호프만(Paul Hofemann)
Molecular Imprints Inc.
1-512-225-8441
phofemann@molecularimprints.com

 

출처: Molecular Imprints Inc.
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