(상하이 2015년 7월 8일 PRNewswire=연합뉴스) 오늘 10나노급 이하의 고난이도 식각 공정에 적합하게 설계된 최신 설비인 Primo SSC AD-RIE장치를 한국의 첨단 메모리 제조업체에 공급 하였다고 발표했다. 기 고객사는 이미 SSC AD-RIE설비를 16나노의 핵심공정에 적용하여 대량생산하고 있으며, 이번에 새로 도입된 설비는 3차원 낸드 플래시 소자의 시험생산에 활용될 예정이다.
모바일 기기의 엄청난 발전, 데이터 스트리밍 서비스와 소셜미디어 같은 다양한 어플리케이션의 성장은 한차원 높은 반도체 메모리 용량과 속도를 필요로 하고 있으며, 현재의 이차원 낸드 공정으로는 그 요구를 충족시키기 어렵다. 데이터 소실, 포토 공정의 미세 패턴화 한계와 같은 문제는 이차원 낸드 공정으로 더이상 극복하기 힘들다. 3차원 VNAND는 대표적인 차세대 기술로서 고용량, 고속 동작속도, 높은 전압효율 및 재현성을 향상시켰으며 제조 단가도 대폭 낮출 수 있고 AMEC의 고객은 3차원 기술 전환을 선도하고 있다.
AMEC KML(Key memory and logic) 그룹의 윤경일 사장은 "우리는 3차원 VNAND flash가 차세대 메모리 기술이 될 것임을 인식하고, 엄청난 연구개발 인력을 투입하여 고객과 함께 최첨단 생산 공정에 필요한 핵심 식각기술을 개발해 왔다. 메모리 업계 선두업체의 3차원 VNAND 시험생산라인에서 생산기준설비로 성공적으로 자리 잡게 된 것은 고객과의 공동노력의 결과라고 생각한다. 더군다나 몇몇 선진 식각 장치 공급업체와의 치열한 수주 경쟁속에서 우리의 경쟁력있는 공정기술과 기술적 난관에 대한 발빠른 대응이 설비 수주로 이어지게 된 계기가 된 것으로 믿고 있으며, 이를 기쁘고 자랑스럽게 생각한다" 라고 말했다.
Primo SSC AD-RIE 설비는 AMEC 산화막 식각 장치군 중에서 우수한 펌핑 능력과 높은 이온 에너지를 필요로하는 HARC 공정에 뛰어난 성능을 발휘도록 설계된 가장 최신 설비로써 높은 생산성, 적은 유지비용의 장점을 가지고 있다.
(주)에이멕은 세계적 반도체 제조업체에 납품하고 있는 중국 최대의 첨단 반도체 공정 및 에너지 관련 설비 업체로써, 산화물 식각 및 TSV 식각 장비를 업계 선두의 고객사에 공급하여 10나노급 반도체 소자를 생산하는데 기여하고 있다. 현재까지 아시아 전역 33개 fab에 400 챔버 이상 설치되었으며, 자사의 MOCVD 설비 역시 고객사의 첨단 LED 제품 생산에 활용되고 있다. 자세한 사항은 www.amec-inc.com 에서 확인 가능합니다.
출처: Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.
